東京工芸大学 工学研究科工学専攻 谷心さんが日本写真学会年次大会で学生優秀口頭発表賞を受賞
2026年5月30日（土）～5月31日（日）に、日本写真学会の創立に関係が深い東京工芸大学中野キャンパスで、「日本写真学会創立100周年記念大会」（以下、同大会）が開催された。
同大会において、東京工芸大学工学研究科 工学専攻化学・材料工学専門分野 博士前期1年の谷心さんは、「ハイブリット反射を得るための導電性高分子交互積層膜の作製方法」と題した研究成果について口頭発表を行った。その後、2026年7月2日（木）に学生優秀口頭発表賞の受賞が決定した。
谷さんが所属する研究室では、課題の一つとして、金属材料を有機材料に置き換えて金属光沢を得る研究に取り組んでいる。この材料の変更で、製品の軽量化、フレキシブル化、電波障害の軽減、金属アレルギーの軽減、廃棄物処理の低コスト化等が実現する。このたび、導電性高分子の交互積層することで、分子構造による光吸収と多層膜の構造干渉に基づくハイブリッド反射を実現し、所望の色調の金属様光沢の形成に成功した成果を発表した。
同大会は、一般社団法人日本写真学会が主催し、写真およびそれに関連する分野の科学技術の進歩・発展を目的として毎年開催されている。2026年度の学生口頭発表部門には10名が参加した。谷さんが受賞した「学生口頭優秀賞」は、研究内容の独創性や学術的価値に加え、今後の写真関連分野の進歩に著しい貢献が期待される優秀な発表を行った学生に授与される賞。
指導教員の山田勝実教授は、「谷さんは修士課程で初の学会発表にて、聴衆を惹きつける圧倒的なプレゼン能力を発揮し、学生優秀口頭発表賞を受賞しました。専門外の人にも伝わる明快な説明と、堂々とした語り口が選考委員から極めて高く評価されました。この高い発信力を活かし、今後の研究を力強く牽引してくれることを期待します」と話す。
■一般社団法人 日本写真学会
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■日本写真学会創立100周年記念大会（年次大会） 学生・若手優秀発表賞者一覧
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■東京工芸大学
東京工芸大学は1923（大正12）年に創設された「小西寫眞（写真）専門学校」を前身とし、創設当初からテクノロジーとアートを融合した無限の可能性を追究し続けてきました。2023年に創立100周年を迎えました。
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